9月21日，美國原子級精密制造工具的納米技術公司Zyvex Labs發布公告，已推出世界上最高分辨率的光刻系統“ZyvexLitho1“，其使用電子束光刻技術，實現了768皮米(即0.768納米)的原子級精密圖案和亞納米級分辨率。Zyvex Labs已經開始接受ZvyvexLitho1系統的訂單，交貨期約為6個月。

　　EUV光刻機是當前先進制程的必備設備。荷蘭阿斯麥(ASML)作為全球第一大光刻機設備商，同時也是全球唯一可提供EUV光刻機的設備商。在市調機構CINNO Research發布的2022年上半年全球上市公司半導體設備業務營收排名Top10報告中排名第二。

　　Zyvex Labs此次推出的ZyvexLitho1光刻系統，基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是EBL電子束光刻方式，可以制造出了0.7納米線寬的芯片，相當于2個硅原子的寬度，是當前制造精度最高的光刻系統。

　　據悉，ZyvexLitho1光刻系統ZyvexLitho1的高精度光刻可以用于實驗室階段高端制程工藝的產品研發，是傳統芯片制造所需光刻機的一個應用補充，主要可用于制造對于精度有較高要求的量子計算機的相關芯片，例如高精度的固態量子器件以及納米器件及材料，對半導體產業的發展也具有巨大的促進作用。目前，Zyvex Labs已經開始接受訂單，6個月內就可出貨。

　　對于這個新型光刻系統是否會威脅到EUV光刻的統治地位，賽迪顧問集成電路產業研究中心一級咨詢專家池憲念表示：“短期內并不會“，他指出ZyvexLitho1是一種使用電子束曝光作為光刻方式的設備，與傳統光刻機工作原理會有明顯的差異。它是通過電子束改變光刻膠的溶解度，最后選擇性地去除曝光或未曝光區域。它的優勢在于可以繪制10納米以下分辨率的自定義圖案，是屬于無掩模光刻直接寫入的工作方式，精度遠高于目前的傳統光刻機。但是由于這類型設備的單個產品光刻的工作時間要在幾小時到十幾小時不等，工作效率方面還需進一步提高，因此不會快速取代EUV光刻機。

　　作者：許子皓　　來源：中國電子報、電子信息產業網